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期刊名字 | Journal of Vacuum Science and Technology B:Nanotechnology and Microelectronics （此期刊未被最新的JCR期刊引证报告收录） LetPub评分 4.4
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声誉 5.4 影响力 3.1 速度 7.0 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 期刊ISSN | 2166-2746 | 安装APP，查看期刊最新消息
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| E-ISSN | 2166-2754 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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| 期刊简介 |
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| 该期刊中国学者近期发文 - New | Miniaturized large current GaN-based nanogap device for millimeter-wave systems Author: Han, Xilong; Tao, Hui; Zhang, Canran; Zhang, Jinjing; Peng, Liuzhen; Wang, Pan; Zhang, Jian; Wang, Qilong; Yang, Yang Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B. 2026; Vol. 44, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1116/6.0005352 Performance of TiAlN multilayer coatings prepared by hybrid multi-arc ion plating and high-power impulse magnetron sputtering Author: Chen, Leilei; Feng, Ziran; Gong, Yu; Zhang, Hao; Che, Xingjian Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B. 2026; Vol. 44, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1116/6.0005359 Impact of ammonia flow rate on nonradiative recombination centers and localized states grown in InGaN multiquantum wells Author: Fan, Ziqi; Liang, Feng; Yang, Jing; Liu, Zongshun; Hou, Yufei; Zhang, Yuheng; Yang, Qian; Zhao, Degang Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B. 2026; Vol. 44, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0005394 Effect of hydrogen annealing on the hydrogen sensing response of palladium thin films Author: Tang, Zheng; Jiao, Yizhou; Feng, Le; Zhang, Qiaogen; Fu, Zhong; Hu, Kai; Hu, Dan; Zhao, Aihua Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B. 2026; Vol. 44, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0005375 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 期刊语言要求 | 经LetPub语言功底雄厚的美籍native English speaker精心编辑的稿件，不仅能满足Journal of Vacuum Science and Technology B:Nanotechnology and Microelectronics的语言要求，还能让Journal of Vacuum Science and Technology B:Nanotechnology and Microelectronics编辑和审稿人得到更好的审稿体验，让稿件最大限度地被Journal of Vacuum Science and Technology B:Nanotechnology and Microelectronics编辑和审稿人充分理解和公正评估。LetPub的专业SCI论文编辑服务（包括SCI论文英语润色，同行资深专家修改润色，SCI论文专业翻译，SCI论文格式排版，专业学术制图等）帮助作者准备稿件，已助力全球15万+作者顺利发表论文。部分发表范例可查看：服务好评 论文致谢 。
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| 出版商 | AVS Science and Technology Society | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 涉及的研究方向 | Materials Science-Materials Chemistry | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 出版国家或地区 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 出版语言 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 出版周期 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 出版年份 | 0 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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| 中国学者近期发表的论文 | |
| 1. | Miniaturized large current GaN-based nanogap device for millimeter-wave systems Author: Han, Xilong; Tao, Hui; Zhang, Canran; Zhang, Jinjing; Peng, Liuzhen; Wang, Pan; Zhang, Jian; Wang, Qilong; Yang, Yang Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B. 2026; Vol. 44, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1116/6.0005352 DOI |
| 2. | Performance of TiAlN multilayer coatings prepared by hybrid multi-arc ion plating and high-power impulse magnetron sputtering Author: Chen, Leilei; Feng, Ziran; Gong, Yu; Zhang, Hao; Che, Xingjian Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B. 2026; Vol. 44, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1116/6.0005359 DOI |
| 3. | Impact of ammonia flow rate on nonradiative recombination centers and localized states grown in InGaN multiquantum wells Author: Fan, Ziqi; Liang, Feng; Yang, Jing; Liu, Zongshun; Hou, Yufei; Zhang, Yuheng; Yang, Qian; Zhao, Degang Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B. 2026; Vol. 44, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0005394 DOI |
| 4. | Effect of hydrogen annealing on the hydrogen sensing response of palladium thin films Author: Tang, Zheng; Jiao, Yizhou; Feng, Le; Zhang, Qiaogen; Fu, Zhong; Hu, Kai; Hu, Dan; Zhao, Aihua Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B. 2026; Vol. 44, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0005375 DOI |
| 5. | Optimizing photoresist linewidth roughness in ion beam shaping: A systematic study of stage angular configuration Author: Wu, Xiaojian; Dong, Shuo; Xu, Kaidong; Zhuang, Shiwei Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B. 2026; Vol. 44, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0005220 DOI |
| 6. | Dual-gate Hf-doped InZnO field-effect transistors with sub-0.1 V threshold voltage shift under bias stress Author: Li, Tiaoyang; Hu, Rongling Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B. 2026; Vol. 44, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0005363 DOI |
| 7. | Multiphysics simulation of non-uniform magnetic fields' effect on plasma uniformity in capacitively coupled plasmas Author: Cui, Yu-Meng; Liu, Ze-Xuan; Zhang, Si-Bo; Chen, Long; Zhang, Quan-Zhi Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B. 2026; Vol. 44, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0005370 DOI |
| 8. | Parametric study and performance evaluation of the louver structure in the pumping pipeline of electron beam evaporation coating equipment Author: Yuan, Zuhao; Li, Yong; She, Pengcheng; Gong, Jun; Shi, Renping; He, Qiufu; Liu, Fangting; Li, Junhui Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B. 2026; Vol. 44, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0005283 DOI |
| 9. | Ag-doping induced enhancement in power factor of flexible n-type Bi2Te2.7Se0.3 thin films Author: Tian, Xujiang; Wu, Chonghao; Ma, Congming; Liang, Shaojun; Zhu, Hanming; Yue, Song Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B. 2026; Vol. 44, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0005314 DOI |
| 10. | Study on the imaging of bright-field and dark-field for contact holes in extreme ultraviolet lithography considering stage vibration effects Author: Shen, Hao; Zhang, Libin; Wang, Jiashuo; Rui, Dinghai; Su, Yajuan; Wei, Yayi Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B. 2026; Vol. 44, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0005261 DOI |
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